申请(专利)号： CN201610509329.X

申请日： 2016.07.03

授权公布号： CN105879707B

授权公告日： 2018.08.17

主分类号： B01D71/02(2006.01)I

分类号： B01D71/02(2006.01)I; B01D67/00(2006.01)I;

摘要：本发明公开了一种具有高效离子截留性能的纳米还原‑氧化石墨烯涂层修饰陶瓷膜，该方法采用改进的Hummer法，以微晶石墨为主要原料，制备氧化石墨烯；再采用热还原工艺，获得还原‑氧化石墨烯；将上述纳米还原‑氧化石墨烯超声处理后形成的分散液作为涂覆修饰原料，采用负压抽滤涂覆和热处理工艺，对陶瓷膜进行修饰，从而获得结合牢固、导电的还原‑氧化石墨烯修饰陶瓷膜；最后对上述还原‑氧化石墨烯修饰陶瓷膜的顶/底表面进行被银网并连接导线，制成膜元件。该膜在外电场的辅助作用下，对溶液中的离子具有较高的离子截留率和渗透通量等优良特性，从而拓宽了陶瓷膜的应用领域，同时，本发明具有工艺简单、成本低廉、操作条件易控等优点。

申请权利人： 景德镇陶瓷大学;

发明设计人： 周健儿; 胡学兵; 张小珍; 汪永清; 常启兵;