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一种低压脉冲磁场作用下改善SiC颗粒在镁基复合材料中分布的方法
发布时间:2019-01-10

申请(专利)号: CN201410123403.5

申请日: 2014.03.31

授权公布号: CN103924116B

授权公告日: 2019.01.08

主分类号: C22C1/10(2006.01)I

分类号: C22C1/10(2006.01)I; B22D27/02(2006.01)I;

摘要:本发明公布了一种低压脉冲磁场作用下改善SiC颗粒在镁基复合材料中分布的方法,先将SiC颗粒加入到镁合金熔体中,搅拌均匀,然后将合金熔体浇注到置于脉冲磁场凝固装置的模具中,使复合材料熔体在低压脉冲磁场作用下完全凝固。本发明的优点是:(1)绿色环保、工艺简单、操作方便、易于控制,成本和投资少,该方法只需要对脉冲磁场的强度和合金的凝固速率进行控制;(2)无污染,脉冲磁场不直接接触合金熔体,不会对熔体产生污染,也不会对环境产生污染。

申请权利人: 南昌航空大学;

发明设计人: 陈乐平; 刘勇; 周全;