申请(专利)号：CN201611222834.2

申请日：2016.12.27

授权公布号：CN106811736B

授权公告日：2019.03.05

主分类号：C23C16/455(2006.01)I

分类号：C23C16/455(2006.01)I;

摘要：本发明公开了一种化学气相沉积装置，包括位于反应腔顶部的喷淋头和带侧壁吹扫的反应腔。喷淋头中单圈排列的金属有机气体进气导管设在氢化物进气导管中，使氢化物气体环绕金属有机气体向下输运，氢化物气体或载气从喷淋头内部和外部的进气导管进入反应腔。反应腔的侧壁上设有进气导管，将氢化物或载气输运进入反应腔，起到吹扫作用。在喷淋头中心设置了尾气导管，反应气体沿径向从外侧向中心流动，最终经尾气导管从下向上抽出。使用本发明装置，可在反应腔内形成由外侧向中心的水平层流，相比长距离输运喷淋头，可大幅提升金属有机气体利用率，相比短距离输运喷淋头，将大幅减少反应腔侧壁的反应物沉积，可以满足生产型MOCVD的要求。

申请权利人：南昌大学; 南昌黄绿照明有限公司;

发明设计人：徐龙权; 丁杰; 张建立; 曹盛; 赵鹏; 罗磊; 江风益;